Plasma Etcher Mataupu Faavae

Inductively Coupled Plasma Etch (ICPE) o le taunuuga o le tuʻufaʻatasiga o vailaʻau ma faʻagasologa faʻaletino. O lona fa'avae autu o le, i lalo o le gaogao ma le maualalo o le mamafa, o le leitio e fa'atupuina e le ICP RF fa'amalosi eletise o lo'o tu'uina atu i le toroidal coupling coil. O se kasa fa'afefiloi fa'afefiloi i se vaega fa'apitoa e tu'u fa'atasi ma se fa'amumu fa'apogai, fa'atupuina ai se plasma -maualuga. I lalo o le faatosinaga a le RF i le pito i lalo o le eletise, o lenei plasma e osofaʻia le mea o loʻo i luga o le substrate, ma talepeina le vailaʻau o mea semiconductor i le vaega mamanu o le substrate. O nei mea fe'avea'i e fegalegaleai ma le kesi etching e fausia ai mea fa'afefiloi, ona vavae'ese lea mai le mea'ai e pei o kasa ma pamu i fafo mai le laina vacuum.