IC Substrate Vertical Plasma Meafaigaluega
IC Substrate Vertical Plasma Equipment ua fa'apitoa mo le fa'amamāina o mea fa'apipi'i IC i faiga fa'apipi'i IC masani, e fa'amama lelei ai vaega, suau'u, ma mea fa'aleagaina i luga e maua ai se -tulaga maualuga mo la'asaga o le afifiina mulimuli ane. E lagolagoina e le faiga le fa'aogaina otometi atoa ma le mata pa'i ma le PLC fa'atonutonu, fa'ataga le fa'atonuga atoatoa o fa'asologa o faiga, mata'ituina -taimi moni, pulega o fua, ma fa'aaliga fa'ailo.
Fa'amatalaga Galuega
IC Substrate Vertical Plasma Equipment ua fa'apitoa mofa'amama IC substrates i faiga masani fa'apipi'i IC, ave'ese lelei mea'ai, suau'u, ma mea fa'aleagaina i luga e maua ai se -tulaga maualuga mo la'asaga fa'apipi'i mulimuli ane. E lagolagoina e le faigafa'atosina atoatoafa'atasi ai ma le mata pa'i ma le PLC fa'atonutonu, fa'amatagofieina le fa'afoega atoatoa o fa'asologa o fa'agasologa, mata'ituina-taimi moni, fa'atonuga o fua, ma logo fa'ailo. E mautu, fa'atuatuaina, ma faigofie ona fa'agaioi, e fetaui ma le maualuga-sa'o ma maualuga-mana'oga tumau o faiga fa'apipi'i IC.
Vaega Autu (Fa'atulagaina)
Vacuum Solenoid Valves
Tulaga -maualugaSVF fa'ailoga solenoid valvefaʻamautinoa le vave tali atu ma le faʻatonutonuina mautu o le tafega kesi potu gaogao.
Suiga o Omiga ma Pule Faatonu
SMC fa'ailoga maualuga-sao lelei ki ma fa'atonutu'uina atu le pulea sa'o o le gaogao ma le mamafa o le kesi, fa'atumauina fa'agaioiga fa'agasologa faifaipea.
Fuafuaga Electrode
O eletise e faia mai le aipu alumini malo tasi ma se ogatotonu gaogao, ma le fa'aoga o ala malulu-po eli loloto ua tu'ufa'atasia ma fa'alava o le tafegae ta'ita'ia le vai malulu i luga o se ala fa'amamafa. Ole mea lea e fa'amautinoa ai le vevela o le electrode, fa'aleleia le fa'aogaina o togafitiga plasma ma le toe fa'afouina.
Talosaga Autu
O meafaigaluega e masani ona faʻaaogaina moFa'amamaina o mea'ai IC, pulea tonu le si'osi'omaga o le plasma e aveese ai vaega laiti, resini totoe, ma mea fa'aletino. E faʻaleleia ai le faʻaogaina o le faʻapipiʻiina o le IC ma le tutusa o oloa. O le faiga e fetaui ma substrates o lapopoa eseese ma meafaitino, ausia le mama mama ma faagasologa saʻo manaoga o le alamanuia afifiina faaeletonika.
Fa'amatalaga Fa'apitoa
Vacuum Level
Tausia20–50 Pai le taimi o gaioiga masani, faʻamautinoaina se siosiomaga faʻapitoa togafitiga plasma.
Metotia o le tafega o kesi
Fa'aaogaina apateni pito i luga-i totonu, pito i lalo-mamanu fa'asusufa'atasi ai ma pa'u fa'afefe e fa'amautinoa ai le fa'alelei tutusa o le ea i totonu o le potu ma fa'ataunu'u togafitiga.
Faiga malulu
Ua mamanuina ala fa'amalo fa'aeletise i pu loloto-ma fa'alava tafe e ta'ita'i ai le vai i le ala fa'atonu, fa'amautinoaina tutusa le vevela o le eletise ma fa'aleleia atili ai le mautu ma le toe fa'afo'i.
Talosaga Taua
O le IC substrate vertical plasma meafaigaluega e maua ai sesili ona lelei, mautu, ma le atamai faʻamamaina vaifofo. E ala i le fa'amalieina o le vacuum airflow ma le electrode cooling design, e matua fa'aleleia atili ai le fa'apipi'iina o le IC ma le fa'atumauina o oloa a'o fa'aitiitia fa'aletonu fa'agasologa ma otaota gaosiga. O le faiga e faigofie ona fa'agaioi ma tausia, malosi-ma lelei, ma fa'alelei le si'osi'omaga, ma avea ai ma aseta autu mo tagata gaosi mea e teu ai IC o lo'o taumafai e fa'aleleia le gaosiga, fa'amautinoa le lelei faifaipea, ma fa'atumauina le mautu o faiga.
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